[发明专利]薄膜沉积用的掩模及用该掩模制造有机发光显示器的方法有效
申请号: | 200910170990.2 | 申请日: | 2009-08-31 |
公开(公告)号: | CN101667529A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 成栋永;金汞律 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L51/56;H01L21/312 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张 波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种用于薄膜沉积的掩模及制造OLED的方法。本发明公开了在形成有机发光装置中的有机薄膜或导电层中使用的用于薄膜沉积的掩模。在一个实施例中,掩模包括:i)底构件;ii)多个狭缝,构造为穿透底构件,其中多个狭缝具有预定长度并沿第一方向延伸,其中多个狭缝包括置于第二方向最外面的最外狭缝,第二方向相对于第一方向具有预定角度,其中最外狭缝包括两个彼此分离的子狭缝;以及iii)肋支撑部件,形成在两个子狭缝之间并与两个子狭缝接触,其中肋支撑构件从与最外狭缝相邻的肋延伸。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 制造 有机 发光 显示器 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于薄膜沉积的掩模,包括:底构件;和穿透所述底构件的多个狭缝,其中所述多个狭缝具有预定长度并沿第一方向延伸,其中所述多个狭缝包括置于沿第二方向的最外位置的最外狭缝,所述第二方向相对于所述第一方向具有预定角度,并且其中每个所述最外狭缝包括通过肋支撑部件彼此分离的两个子狭缝。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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