[发明专利]氧化的共形覆盖层无效
| 申请号： | 200910173342.2 | 申请日： | 2009-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN101685639A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | S·D·哈克尼斯四世;Z·S·吴 | 申请（专利权）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/62 | 分类号： | G11B5/62;G11B5/72;G11B5/84 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 项 丹 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及氧化的共形覆盖层，提供了一种颗粒状垂直磁记录介质，其具有覆盖层，该覆盖层由具备高表面迁移率和低表面能的材料构成。所述覆盖层的表面被氧化而产生阻挡腐蚀的钝化性表面。具体地说，本发明提供了一种磁记录介质，包括：衬底；位于衬底上的颗粒磁性层；位于颗粒磁性层上的覆盖层；和位于覆盖层上的保护覆层，该保护覆层包含碳和硅中的至少一种，其中，所述覆盖层包含具有低于2600K的玻璃化转变温度和低于2.6J/m2的表面能的材料。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 覆盖层 | ||
【主权项】：
1、一种磁记录介质，包括：衬底；位于衬底上的颗粒磁性层；位于颗粒磁性层上的覆盖层；和位于覆盖层上的保护覆层，该保护覆层包含碳和硅中的至少一种，其中，所述覆盖层包含具有低于2600K的玻璃化转变温度和低于2.6J/m2的表面能的材料。
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