[发明专利]具有两个测量单元的表面测量装置

摘要

用于测定材料光学特性的设备，包括具有第一辐射装置和第一辐射探测装置的第一测量装置，第一辐射装置以第一辐射角引导辐射到材料上，第一辐射探测装置与材料成第一接收角放置并接收至少部分第一辐射装置引导到材料上和从材料上散射回的辐射，第一辐射探测装置还发出反映射在其上的辐射强度特征的第一特征信号。该设备还包括具有第二辐射装置和第二辐射探测装置的第二测量装置，第二辐射装置以特定的辐射角引导辐射到材料上，第二辐射探测装置与材料成一定接收角放置并接收至少部分由第二辐射装置引导到材料上和从材料上散射回的辐射，第二辐射探测装置允许对入射辐射进行局部分解评价，并发出至少一个反映射在其上辐射特征的第二特征信号。

主权项

一种用于测定材料光学特性的设备，包括具有第一辐射装置(4)的第一测量装置(2)，第一辐射装置(4)以第一特定辐射角将辐射引导到材料(10)上，所述第一测量装置(2)还具有第一辐射探测装置(6)，第一辐射探测装置(6)与材料(10)成第一接收角放置，并接收至少部分第一辐射装置(4)引导到材料上和从材料(10)上散射回的辐射，同时，第一辐射探测装置(6)发出第一特征信号，所述第一特征信号反映了射在第一辐射探测装置(4)上的辐射强度的特征；其特征在于，所述设备(1)还包括具有第二辐射装置(14)的第二测量装置(12)，所述第二辐射装置以第二特定辐射角将辐射引导到材料(10)上，第二测量装置(12)具有第二辐射探测装置(16)，所述第二辐射探测装置(16)与材料成一定接收角放置，并接收至少部分由第二辐射装置(14)引导到材料上和从材料(10)上散射回的辐射，第二辐射探测装置(16)允许对入射辐射进行局部分解评价，并发出至少一个第二特征信号，所述至少一个第二特征信号反映了射在第二辐射探测装置(16)上的辐射的特征。