[发明专利]光掩模制造方法以及光掩模

摘要

本发明涉及光掩模制造方法以及光掩模，该光掩模制造方法包括：准备在透明基板上形成有遮光膜的光掩模坯体的工序；对形成在所述遮光膜上的抗蚀剂膜进行构图来形成抗蚀剂图案的工序；将抗蚀剂图案作为掩模对遮光膜进行蚀刻并形成遮光膜图案的工序；以及对形成的遮光膜图案进行缺陷检查，当存在由过剩物引起的黑缺陷时对该缺陷部分进行修正的工序。对缺陷部分进行修正的工序在光掩模上再次形成抗蚀剂膜，在包含缺陷部分的规定区域中进行规定的图案描绘并显影，来形成修正用抗蚀剂图案，并将该抗蚀剂图形作为掩模实施蚀刻，去除缺陷部分的过剩物。

主权项

1.一种光掩模制造方法，其包括：准备在透明基板上形成有遮光膜的光掩模坯体的工序；对形成在所述遮光膜上的抗蚀剂膜进行构图来形成抗蚀剂图案的工序；将所述抗蚀剂图案作为掩模对所述遮光膜进行蚀刻并形成遮光膜图案的工序；以及对形成的遮光膜图案进行缺陷检查，当存在由过剩物引起的黑缺陷时对该缺陷部分进行修正的工序，该光掩模制造方法的特征在于，对所述缺陷部分进行修正的工序包括以下工序：确定所述缺陷部分的工序；在所述光掩模上再次形成抗蚀剂膜的工序；在包含所述缺陷部分的规定区域中，进行基于描绘图案数据的图案描绘，在描绘后进行显影来形成修正用抗蚀剂图案的工序，其中所述描绘图案数据是根据所述确定的缺陷部分的位置和形状而制作的；以及将所述修正用抗蚀剂图案作为掩模来实施蚀刻，去除所述缺陷部分的过剩物的工序，所述抗蚀剂图案包括第一标记，所述修正用抗蚀剂图案包括第二标记，所述光掩模制造方法还具有：在形成所述修正用抗蚀剂图案后或者在去除所述缺陷部分的过剩物的工序后的至少任意一方进行检查的工序，该进行检查的工序包括下述工序：在形成所述修正用抗蚀剂图案后进行检查的情况下，测定与所述第一标记对应的遮光膜图案的边缘和所述修正用抗蚀剂图案中的第二标记的边缘之间的距离；在去除所述缺陷部分的过剩物的工序后进行检查的情况下，测定与所述第一标记对应的遮光膜图案的边缘和与所述第二标记对应的遮光膜图案的边缘之间的距离，并检查所述距离是否在规定范围内。