[发明专利]半导体存储装置有效
申请号: | 200910178533.8 | 申请日: | 2009-09-27 |
公开(公告)号: | CN101685828A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 粟屋信义;中野贵司 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;G11C11/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;王忠忠 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及半导体存储装置。提供了一种廉价的高性能非易失性存储器,其能够无限次随机写入和读出。单位存储单元由MISFET(108)和电阻变化元件(113)构成,所述MISFET(108)具有与半导体衬底电隔离的沟道体,所述电阻变化元件具有一端与MISFET的漏极相连的二端子结构。MISFET(108)起易失性存储元件的作用,而电阻变化元件(113)起非易失性存储元件的作用,从而在电源关断之前MISFET(108)中所储存的信息被复制到电阻变化元件(113),并且在电源接通时电阻变化元件中所储存的信息被传送到MISFET(108),因而,MISFET(108)被用作能够随机写入和读出的易失性存储器。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,包括:多个存储单元,每一个都具有MISFET和电阻变化元件,所述MISFET具有与半导体衬底电隔离的沟道体,所述电阻变化元件具有一个端子与所述MISFET的漏极电连接的二端子结构,其中所述MISFET起易失性存储元件的作用,用于储存第一状态和第二状态,在所述第一状态下,所述沟道体中积蓄多数载流子,在所述第二状态下,所述沟道体中的多数载流子被释放,并且所述电阻变化元件起非易失性存储元件的作用,用于保持具有不同电阻值的两个或更多个状态以及用于在施加电压时以可逆方式在所述状态之间切换。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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