[发明专利]掩模相关基板的洗净方法、洗净方法及洗净液供给装置无效
| 申请号： | 200910179006.9 | 申请日： | 2009-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN101716581A | 公开（公告）日： | 2010-06-02 |
| 发明（设计）人： | 沼波恒夫 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B13/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩模相关基板的洗净方法，当根据纯水来洗净从被硫酸离子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及这些物品的制造中间体中选择出来的掩模相关基板时，对在该洗净中所使用的纯水预先将溶解气体脱气。本发明还涉及一种洗净液供给装置和一种洗净方法，该方法是将洗净液供给至洗净装置中来洗净被洗净基板，当利用用以除去异物的过滤器来过滤洗净液，并将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中来洗净被洗净基板时，至少在将过滤后的洗净液往洗净装置供给之前，先使过滤后的洗净液通过排出管往系统外部排出，之后才将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中。本发明能简便地提高硫酸离子的洗净效率，进而能极度地减少微小异物的发生量。 | ||
| 搜索关键词： | 相关 洗净 方法 供给 装置 | ||
【主权项】：
一种掩模相关基板的洗净方法，其特征在于：当根据纯水来洗净从被硫酸离子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及这些物品的制造中间体中选择出来的掩模相关基板时，对在该洗净中所使用的纯水，预先进行将溶解气体脱气的脱气步骤。
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