[发明专利]用于显示设备的阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910179456.8 申请日: 2009-10-13
公开(公告)号: CN101908537A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 金勇烨;柳昌逸 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/82;H01L21/34;H01L21/3205;H01L21/203
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 用于显示设备的阵列基板及其制造方法。一种用于显示设备的阵列基板包括:具有像素区域的基板;基板上的选通线和栅极,栅极连接到选通线;选通线和栅极上的栅绝缘层;栅极上方且位于栅绝缘层上的氧化物半导体层;氧化物半导体层上的辅助图案,辅助图案具有包括钛和钛合金之一的第一部分以及包括钛氧化物的第二部分;辅助图案上的源极和漏极,源极和漏极设置在辅助图案的第一部分上方并且彼此隔开,以露出辅助图案的第二部分;栅绝缘层上方的数据线,数据线与选通线交叉以限定像素区域,并且数据线连接到源极;源极、漏极和数据线上的钝化层,钝化层具有露出漏极的漏接触孔;钝化层上的像素电极,像素电极通过漏接触孔连接到漏极。
搜索关键词: 用于 显示 设备 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种用于显示设备的阵列基板,该阵列基板包括:具有像素区域的基板;位于所述基板上的选通线和栅极,所述栅极连接到所述选通线;位于所述选通线和栅极上的栅绝缘层;位于所述栅极上方且位于栅绝缘层上的氧化物半导体层;位于所述氧化物半导体层上的辅助图案,所述辅助图案具有包括钛和钛合金之一的第一部分以及包括钛氧化物的第二部分;位于所述辅助图案上的源极和漏极,所述源极和漏极设置在所述辅助图案的第一部分上方并且彼此隔开,以露出所述辅助图案的第二部分;位于所述栅绝缘层上方的数据线,所述数据线与所述选通线交叉以限定所述像素区域,并且所述数据线连接到源极;位于所述源极、漏极和数据线上的钝化层,所述钝化层具有露出所述漏极的漏接触孔;位于所述钝化层上的像素电极,所述像素电极通过所述漏接触孔连接到所述漏极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910179456.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top