[发明专利]快闪存储器单元以及快闪存储器单元的操作方法有效

专利信息
申请号: 200910180288.4 申请日: 2009-10-13
公开(公告)号: CN101997001A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 任兴华 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;G11C16/02;G11C16/10;G11C16/14
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 冯志云
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种快闪存储器单元及快闪存储器单元的操作方法,该快闪存储器单元包含设置于一半导体基板中的一第一电荷攫取区及一第二电荷攫取区、设置于该第一电荷攫取区的一第一侧的该半导体基板中的一第一掺杂区、设置于该第一电荷攫取区的一第二侧的该半导体基板中的一第二掺杂区、隔离该半导体基板与该第一电荷攫取区及该第二电荷攫取区的一第一介电层、设置于该第一电荷攫取区上方的一第一导体、设置于该第二电荷攫取区上方的一第二导体、隔离该第一导体与该第一电荷攫取区且隔离该第二导体与该第二电荷攫取区的一第二介电层,其中该第二电荷攫取区被设置以影响一载流子沟道的导通性,且该载流子沟道设置于该第一电荷攫取区下方的该半导体基板中。
搜索关键词: 闪存 单元 以及 操作方法
【主权项】:
一快闪存储器单元,包含:一第一电荷攫取区及一第二电荷攫取区,设置于一半导体基板中;一第一掺杂区,设置于该第一电荷攫取区的一第一侧的该半导体基板中;一第二掺杂区,设置于该第一电荷攫取区的一第二侧的该半导体基板中;一第一介电层,隔离该半导体基板与该第一电荷攫取区及该第二电荷攫取区;一第一导体,设置于该第一电荷攫取区上方;一第二导体,设置于该第二电荷攫取区上方;一第二介电层,隔离该第一导体与该第一电荷攫取区,且隔离该第二导体与该第二电荷攫取区;其特征在于该第二电荷攫取区被设置以影响一载流子沟道的导通性,且该载流子沟道设置于该第一电荷攫取区下方的该半导体基板中。
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