[发明专利]一种用于单晶硅绒面制备的碳酸盐和苛性碱的混合溶液无效
| 申请号： | 200910181550.7 | 申请日： | 2009-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101619458A | 公开（公告）日： | 2010-01-06 |
| 发明（设计）人： | 屈盛;韩增华;余银祥 | 申请（专利权）人： | 欧贝黎新能源科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/40 | 分类号： | C23F1/40;C30B33/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226600江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种用于单晶硅绒面制备的碳酸盐和苛性碱的混合溶液，它涉及太阳电池制备的技术领域，特别是单晶硅太阳电池的生产技术中绒面的制备。它的配方由以下部分组成：碳酸盐、苛性碱和异丙醇。采用本发明的腐蚀溶液进行单晶硅绒面的制备，不仅反应容易控制，制备出的绒面金字塔均匀性好、硅片表面一致性好，而且采用本发明的腐蚀溶液来制备单晶硅绒面，具有低成本、易操作的特点，可以应用于大规模工业化生产，具有较好的实用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 单晶硅 制备 碳酸盐 苛性碱 混合 溶液 | ||
【主权项】：
1、一种用于单晶硅绒面制备的碳酸盐和苛性碱的混合溶液，其特征在于它的配方由以下部分组成：碳酸盐、苛性碱和异丙醇。
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