[发明专利]一种高密度、高鲁棒性的亚阈值存储单元电路有效

专利信息
申请号: 200910183605.8 申请日: 2009-08-12
公开(公告)号: CN101625891A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 杨军;柏娜;李杰;胡晨;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G11C11/40 分类号: G11C11/40
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 奚幼坚
地址: 21009*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种高密度、高鲁棒性的亚阈值存储单元电路,设有两个PMOS管P1、P2及五个NMOS管N1~N5,两个PMOS管及NMOS管N3、N4、N5的各体端均与本晶体管的栅端连接;NMOS管N1、N2的体端接地;NMOS管N1与PMOS管P1和NMOS管N2与PMOS管P2分别组成两个反相器,两个反相器之间通过关断NMOS管N5将两个反相器连接成交叉耦合,N1、P1反相器的输出端直接连接到N2、P2反相器的输入端,N2、P2反相器的输出端经由关断NMOS管N5连接到N1与P1反相器的输入端;NMOS管N3连接N1、P1反相器的与写位线,NMOS管N4连接N2、P2反相器的与写位线的非和读字线。
搜索关键词: 一种 高密度 高鲁棒性 阈值 存储 单元 电路
【主权项】:
1、一种高密度、高鲁棒性的亚阈值存储单元电路,其特征在于:设有包括两个PMOS管P1及P2,五个NMOS管N1、N2、N3、N4及N5,共七个晶体管构成双端写,单端读的高密度,高鲁棒性亚阈值存储单元电路;其中,两个PMOS管及NMOS管N3、N4、N5的各体端均与本晶体管的栅端连接,NMOS管N1、N2的体端及源端接地,两个PMOS管的源端连接到电源电压,NMOS管N1的漏端和栅端分别与PMOS管P1的漏端和栅端连接在一起,组成一个反相器;NMOS管N2的漏端和栅端分别与PMOS管P2的漏端和栅端连接在一起,组成另一个反相器;NMOS管N1漏端及PMOS管P1漏端与NMOS管N2栅端及PMOS管P2栅端连接在一起,NMOS管N1栅端和PMOS管P1栅端之间的连接端与NMOS管N2漏端和PMOS管P2漏端之间的连接端分别连接在NMOS管N5源、漏两端之任一端,NMOS管N5的栅端与外部控制信号读字线的取反信号连接,NMOS管N1漏端和PMOS管P1漏端之间的连接端与写位线分别连接在NMOS管N3源、漏两端之任一端,NMOS管N3的栅端连写字线,NMOS管N2漏端和PMOS管P2漏端之间的连接端与写位线的非和读位线的共享位线分别连接在NMOS管N4源、漏两端之任一端,NMOS管N4栅端连接到写字线和读字线共享的字线上。
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