[发明专利]立体艺术抛釉砖制造方法无效
申请号: | 200910193083.X | 申请日: | 2009-10-15 |
公开(公告)号: | CN102040399A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 章云树 | 申请(专利权)人: | 章云树 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种立体艺术抛釉砖制造方法,包括以下工艺步骤,1)选用白色的成品砖坯做底砖;2)根据需求设计出各种不同的图案,并将其制作成印花用的丝网;3)将底砖表面擦干净,用自动印花机在底砖上印上不同颜色及效果的图案;4)在印上不同颜色及效果的底砖上再覆盖上不同图案的熔块层;5)把上述覆盖上熔块层的底砖经过窑炉烧成;6)把烧成后的砖体经过抛光机抛光;7)经过分选包装后得到最终的产品成品等工艺步骤。本发明制造方法得出的产品表面就会变得晶莹剔透,熔块层下面的颜色清晰丰富,整个产品立体感增强,避免了很多抛光砖的吸污问题。 | ||
搜索关键词: | 立体 艺术 抛釉砖 制造 方法 | ||
【主权项】:
立体艺术抛釉砖制造方法,其特征是:包括以下工艺步骤,1)选用白色的成品砖坯做底砖;2)根据需求设计出各种不同的图案,并将其制作成印花用的丝网;3)将底砖表面擦干净,用自动印花机在底砖上印上不同颜色及效果的图案;4)在印上不同颜色及效果的底砖上再覆盖上不同图案的熔块层;5)把上述覆盖上熔块层的底砖经过窑炉烧成,在窑炉920至1020℃的温度下,约一个小时烧成后,使底砖表面熔块层熔合成透明的玻璃体,熔块下面的图案颜色呈现出来;6)把烧成后的砖体经过抛光机抛光,将表面的熔块抛平,再经过自动增光机增光处理后,使产品表面就会变得晶莹剔透,熔块层下面的颜色清晰丰富;7)经过分选包装后得到最终的产品成品。
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