[发明专利]红外焦平面封装窗口金属化图形的制作方法无效
| 申请号： | 200910194866.X | 申请日： | 2009-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102004392A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 周东平;赵培 | 申请（专利权）人： | 上海欧菲尔光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01L31/18;G01J5/00 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 杨元焱 |
| 地址： | 200434 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种红外焦平面封装窗口金属化图形的制作方法，该方法采用丝网印刷方法在基片中间的红外薄膜上印刷一层掩膜胶，在基片整体上镀制金属薄膜，利用去掩膜液去除基片中间红外薄膜上的掩膜胶，即形成基片中间为红外薄膜区、基片四周为金属薄膜区的金属化图形。本发明将所需图形直接印制在基片上，图形一次成型，相对于光刻方法，图形制作工艺简单。由于采用丝网印刷方法制作图形，丝印设备简单，价格便宜，有效降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 平面 封装 窗口 金属化 图形 制作方法 | ||
【主权项】：
一种红外焦平面封装窗口金属化图形的制作方法，在红外窗口基片上实施，其特征在于，包括以下步骤：a、采用丝网印刷方法在基片中间的红外薄膜上印刷一层掩膜胶；b、在基片整体上镀制一层金属薄膜；c、利用去掩膜液去除基片中间红外薄膜上的掩膜胶，即形成基片中间为红外薄膜区、基片四周为金属薄膜区的金属化图形。
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