[发明专利]铝刻蚀方法有效
| 申请号： | 200910196425.3 | 申请日： | 2009-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN102031524A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 张海洋;符雅丽;孙武 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/12 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 王一斌;王琦 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了铝刻蚀方法，包括：在铝层上形成光刻胶层；对光刻胶层进行曝光，显影并刻蚀所述光刻胶层，使其形成开口为T型的光刻胶图案；以所述开口为T型的光刻胶图案为掩膜，对铝进行刻蚀。本发明增大了显影后的光刻胶层的剖面面积，从而增加了铝刻蚀过程中生成的聚合物，降低了腐蚀生成物对铝的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
一种铝刻蚀方法，该方法包括：在铝层上形成光刻胶层；对光刻胶层进行曝光、显影并刻蚀所述光刻胶层，使其形成开口为T型的光刻胶图案；以所述开口为T型的光刻胶图案为掩膜，对铝进行刻蚀。
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