[发明专利]一种ESD保护装置有效

专利信息
申请号: 200910196865.9 申请日: 2009-09-27
公开(公告)号: CN102034808A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 单毅 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/60;H02H9/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李丽
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种ESD保护装置,包括:晶闸管,所述晶闸管包括寄生PNP管和寄生NPN管,寄生PNP管的发射极连接到阳极接线柱,其基极通过N阱寄生电阻连接到阳极接线柱,寄生NPN管的发射极连接到阴极接线柱,其基极通过P阱寄生电阻连接到阴极接线柱,晶闸管还包括位于所述P阱的P+阱接触,P+阱接触连接寄生NPN管的基极;耗尽型MOS管,所述MOS管的栅极加偏压,MOS管的漏极通过与漏极相连的阱电阻连接到阳极接线柱,MOS管的源极连接所述P+阱接触。本发明的ESD保护装置触发电压低,能够快速泄放ESD电流、消除ESD的过高电压,有效保护内部电路。
搜索关键词: 一种 esd 保护装置
【主权项】:
一种ESD保护装置,其特征在于,所述装置位于P衬底上,包括:晶闸管,所述晶闸管包括寄生PNP管和寄生NPN管;所述寄生PNP管的发射极连接到阳极接线柱,其基极通过第一N阱的寄生电阻连接到阳极接线柱;所述寄生NPN管的发射极连接到阴极接线柱,其基极通过P阱寄生电阻连接到阴极接线柱;所述晶闸管还包括位于所述P阱的P+阱接触,所述P+阱接触连接所述寄生NPN管的基极;耗尽型NMOS管,所述NMOS管的栅极加负偏压;所述NMOS管的漏极通过第二N阱的寄生电阻连接到所述阳极接线柱;所述NMOS管的源极连接所述P+阱接触,以使ESD电流经过第二N阱的寄生电阻和所述NMOS管后流入所述寄生NPN管的基极,通过P阱寄生电阻,提高所述寄生NPN管基极和发射极的压降,促进所述寄生NPN管导通;寄生NPN管导通后,其集电极电流使得寄生PNP管的发射极和基极发生正偏,促使寄生PNP管导通,最终使得整个晶闸管导通放电。
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