[发明专利]一种硅上液晶及其铝反射镜的制造方法无效

专利信息
申请号: 200910197249.5 申请日: 2009-10-15
公开(公告)号: CN102043294A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 陆恩莲;俞昌;杨春晓;张雅礼 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;C23C14/16
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种用于硅上液晶的铝反射镜的制造方法,其中,包括如下步骤:在衬底上形成铝金属层;图案化所述铝金属层;在所述铝金属层上形成绝缘层;去除位于所述铝金属层上方的部分所述绝缘层;对铝金属层表面进行化学机械研磨。本发明还提供了一种硅上液晶,其结构包括由上述方法制造的铝反射镜。本发明可以提高用于硅上液晶的铝反射镜的反射率。
搜索关键词: 一种 液晶 及其 反射 制造 方法
【主权项】:
一种用于硅上液晶的铝反射镜的制造方法,其中,包括如下步骤:a.在衬底上形成铝金属层;b.图案化所述铝金属层;c.在所述铝金属层上形成绝缘层;d.去除位于所述铝金属层上方的部分所述绝缘层;e.对铝金属层表面进行化学机械研磨。
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