[发明专利]一种扩展电阻测试样品制备方法及样品研磨固定装置有效

专利信息
申请号: 200910197373.1 申请日: 2009-10-19
公开(公告)号: CN102042798A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 李震远;宋洁;陈彬 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G01B7/06 分类号: G01B7/06;G01R27/02;B24B1/00;B24B41/06
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 20120*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种扩展电阻测试样品制备方法,包括以下步骤:将样品固定于与水平面具有固定角度的样品台的斜面上并将所述样品台固定于样品研磨固定装置上;将所述样品研磨固定装置放置于粗磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述粗磨磨具接触,对所述样品进行粗磨;将所述样品研磨固定装置放置于细磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述细磨磨具接触,对所述样品进行细磨抛光。本发明提供的扩展电阻测试样品制备方法可制备目标深度(外延层深度)为10um至600um的扩展电阻测试样品,且相比于现有技术的制备方法,采用本发明的扩展电阻测试样品制备方法显著提高了样品的制备效率,成本也更加低廉。
搜索关键词: 一种 扩展 电阻 测试 样品 制备 方法 研磨 固定 装置
【主权项】:
一种扩展电阻测试样品制备方法,包括以下步骤:将样品固定于与水平面具有固定角度的样品台的斜面上并将所述样品台固定于样品研磨固定装置上;将所述样品研磨固定装置放置于粗磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述粗磨磨具接触,对所述样品进行粗磨;将所述样品研磨固定装置放置于细磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述细磨磨具接触,对所述样品进行细磨抛光。
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