[发明专利]用于动态调整化学机械抛光速率的方法有效

专利信息
申请号: 200910197574.1 申请日: 2009-10-21
公开(公告)号: CN102044408A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 潘继岗;彭澎 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/306
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 董巍;顾珊
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于动态调整化学机械抛光速率的方法,包括下列步骤:收集特定历史时间段内的抛光数据,所述数据包括该时间段内多次测量的线下抛光速率,以及该时间段开始时的抛光速率结束时的抛光速率;根据这些历史数据计算每次抛光的抛光厚度调整量,从而将化学机械抛光设备中损耗部件的损耗情况进行评估并及时反馈,从而及时调整化学机械抛光设备的抛光速率,以便使得化学机械抛光设备可以始终以恒定的抛光速率进行工作,从而减小停机维护的频率,提高工作效率。
搜索关键词: 用于 动态 调整 化学 机械抛光 速率 方法
【主权项】:
一种用于动态调整化学机械抛光速率的方法,包括下列步骤:收集特定历史时间段(T)内的抛光数据,所述数据包括该时间段内多次测量的线下抛光速率,以及该时间段开始时的抛光速率(RR_pre)结束时的抛光速率(RR_post);根据所述多次测量的线下抛光速率计算算术平均值,得到平均参考抛光速率(RR_Blanket);根据所述时间段开始时的抛光速率和结束时的抛光速率,按下列公式得出该时间段的平均抛光率(RR_ave):RR_ave=(RR_pre‑RR_post)/T对于待抛光的第M个产品的第N层,其中M和N为大于1的正整数,利用平均抛光率和平均参考抛光速率根据下列公式进行计算,得出一系数(Coefficient_N):Coefficient_N=RR_ave/RR_Blanket计算所述第N层的厚度补偿量(Offset_N):Offset_N=化学机械抛光之后的理想厚度‑化学机械抛光之后的实际厚度建立归一化的反馈参数,将第N层的反馈调整量Feedback_N定义为:Feedback_N=Offset_N/Coefficient_N对于第N层定义初始的抛光厚度Initial_N:Initial_N=(化学机械抛光之前实际厚度‑化学机械抛光之后的理想厚度)/Coefficient_N计算反馈的抛光厚度调整量(Feedback(1)_N):Feedback(1)_N=(化学机械抛光之前实际厚度‑化学机械抛光之后的理想厚度)/Coefficient_N+Feedback_N。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910197574.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top