[发明专利]一种紫外纳米压印抗蚀剂及其组成

摘要

本发明涉及一种紫外纳米压印抗蚀剂及其组成，属纳米压印抗蚀剂技术领域。本发明公开的抗蚀剂由自由基固化的(甲基)丙烯酸酯预聚物、单体、光引发剂和助剂组成。本发明的抗蚀剂适用于紫外纳米压印技术，尤其适合于旋转涂布的紫外纳米压印技术。其特点是本抗蚀剂在硅片、石英片、蓝宝石片、氮化镓片、氮化镓铟片、氮化镓铝片、磷化镓铟片等基片上的固化层以及硅模板、石英模板上的残留固化层用浓硫酸、硫酸/双氧水的任意一种就可以快速、方便的去除。本抗蚀剂在硅片、石英基片上的固化残余层用氧气等离子体就能方便的扫除。本抗蚀剂还具有涂布平整度高、涂布层无缺陷、固化速度快、收缩率低、分辨率高、刻蚀选择比高等优点。

主权项

一种自由基固化的纳米压印抗蚀剂，按质量百分比，其组成为：(甲基)丙烯酸酯预聚物60％～80％单体5％～30％光引发剂1％～6％助剂0.01％～10％，各组份的质量之和为100％，其中，(甲基)丙烯酸酯预聚物由超支化聚酯丙烯酸酯、芳香族(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、脂肪族(甲基)丙烯酸酯、脂肪族聚氨酯(甲基)丙烯酸酯的一种或多种组成。单体由(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙基酯、甲氧基聚乙二醇单丙烯酸酯、乙氧化壬基酚丙烯酸酯，1，3-丁二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酸酯、三缩四乙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、二缩三乙二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯的一种或多种组成。光引发剂由二苯甲酮、安息香双甲醚、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、1-羟基-环己基-苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮的一种或多种组成。