[发明专利]光掩模缺陷的定位装置及定位方法有效
申请号: | 200910197803.X | 申请日: | 2009-10-28 |
公开(公告)号: | CN102053479A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 葛海鸣 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种定位装置,包括:基座;气浮式X-Y两坐标平面移动台;光掩模放置台,设置在该移动台上,并且包括固定台和旋转台,前者固定在移动台上,旋转台与移动台可旋转地连接;固定台上设置X-Y方向反射部件和显示移动台X-Y方向的标记;旋转台上设置若干真空孔,用于吸附固定光掩模版;光掩模上设置粗、细对准标记;激光定位装置,设置在基座上,发出光照射到所述反射部件并接受反射光以测定光掩模放置台位置;光掩模激光对准装置,设置在光掩模放置台上方,寻找并对准置于光掩模放置台上的光掩模的粗对准标记和细对准标记,以测定光掩模的精确位置。 | ||
搜索关键词: | 光掩模 缺陷 定位 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种定位装置,其特征在于,包括:基座;气浮式X‑Y两坐标平面移动台,固定在基座上,用于将光掩模放置台在X‑Y方向精确移动;光掩模放置台,包括固定台和旋转台,固定台固定在所述气浮式X‑Y两坐标平面移动台上,旋转台相对于所述气浮式X‑Y两坐标平面移动台可旋转地连接在气浮式X‑Y两坐标平面移动台上;X‑Y方向反射部件和X‑Y方向标记设置在光掩模放置台的固定台上;旋转台上设置若干真空孔,用于吸附固定光掩模版;激光定位装置,设置在基座上,发出光照射到所述反射部件并接受反射光以测定光掩模放置台位置;光掩模上设置粗对准标记和细对准标记;光掩模激光对准装置,设置在光掩模放置台上方,该装置利用激光扫描光掩模版上的粗对准标记和细对准标记的X‑Y方向的边缘以及光掩模放置台上的X‑Y方向标记,测量出这些粗细对准标记的位置,进而测算出光掩模上对准标记的X‑Y方向相对于移动台的X‑Y标记方向的角度,将光掩模的X‑Y方向旋转到与移动台的X‑Y标记方向平行。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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