[发明专利]一种可控硅整流器静电防护器件有效

专利信息
申请号: 200910198847.4 申请日: 2009-11-17
公开(公告)号: CN102064173A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 朱立群;彭云武;严淼 申请(专利权)人: 无锡华润矽科微电子有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L29/74;H01L29/06;H01L23/60
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 王洁
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种可控硅整流器静电防护器件,包括P型衬底,在所述P型衬底上包括有N阱注入区(32)和P阱注入区(30);所述N阱注入区(32)内包括有第一N+注入区(16)和第一P+注入区(18);所述P阱注入区(30)内包括有第三N+注入区(26)、第四N+注入区(22)和第二P+注入区(28),所述第三N+注入区(26)和第四N+注入区(22)之间的P阱注入区(30)表面覆盖有场氧化层及覆盖场氧化层上的导电层(24)。本发明提供的可控硅整流器静电防护器件,结合了传统的SCR静电防护特性和场氧化层NMOS管静电防护特性,以较小的面积、高效的防静电能力对集成电路输入输出口进行ESD保护。
搜索关键词: 一种 可控 硅整流器 静电 防护 器件
【主权项】:
一种可控硅整流器静电防护器件,其特征在于,所述可控硅整流器静电防护器件包括P型衬底(10),在所述P型衬底(10)上包括有N阱注入区(32)和P阱注入区(30);所述N阱注入区(32)内包括有第一N+注入区(16)和第一P+注入区(18);所述P阱注入区(30)内包括有第三N+注入区(26)、第四N+注入区(22)和第二P+注入区(28),所述第三N+注入区(26)和第四N+注入区(22)之间的P阱注入区(30)表面覆盖有场氧化层及覆盖场氧化层上的导电层(24)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡华润矽科微电子有限公司,未经无锡华润矽科微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910198847.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top