[发明专利]金属蒸镀坩埚无效
| 申请号： | 200910199178.2 | 申请日： | 2009-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN102071398A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 李诺;刘畅 | 申请（专利权）人： | 上海广电电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/14 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 201204 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属蒸镀用坩埚，包括一端开口的坩埚容器，其特点是：坩埚容器的开口边上设有一个环状水平平台，环状水平平台上开有至少一条环状限流凹槽。环状限流凹槽与坩埚容器和环状水平平台同心，且位于水平平台外沿，环状水平平台的宽度至少为加热丝横截面宽度的三倍。环状限流凹槽的深度为环状水平平台厚度的一半，其宽度小于加热丝的直径。本发明具有一个相对宽阔的水平平台，其宽度大于加热丝横截面直径的三倍或三倍以上，因而溢出坩埚本体的金属熔液，在横向漫过水平平台之后，就不会与隐蔽在水平平台下方的加热丝接触，且减少了溢出金属熔液再次受热蒸发导致加热不稳定的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 坩埚 | ||
【主权项】：
一种金属蒸镀用坩埚，包括一端开口的坩埚容器，其特征在于：所述坩埚容器的开口边上设有一个环状水平平台，环状水平平台上开有至少一条环状限流凹槽。
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