[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200910201383.8 | 申请日： | 2009-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN102101979A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种对硅进行化学机械抛光的抛光液。该抛光液中含有水，研磨颗粒、至少一种硅的增速剂和至少一种硅的抑制剂。本发明的抛光液通过调节硅的增速剂和抑制剂的量，可以调节硅与二氧化硅的选择比，提高平坦化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种抛光硅的化学机械抛光液，包含：水、研磨颗粒、至少一种硅的增速剂和至少一种硅的抑制剂。
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