[发明专利]控制臭氧化水流量及浓度的设备和方法有效
| 申请号： | 200910204983.X | 申请日： | 2003-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN101676220A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | J·费特考;J·西维特;C·戈茨查克 | 申请（专利权）人： | MKS仪器股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/00 | 分类号： | C02F1/00;H01L21/00;G05D11/02;G05D11/13 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于向超过一个加工设备供应臭氧化水的设备和方法。将来自于臭氧化水发生器的第一浓度臭氧化水与来自于水源的水混合成第二浓度臭氧化水。向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。向第二加工设备供应来自于臭氧化水发生器的臭氧化水，同时向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 臭氧 水流 浓度 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种混合半导体加工设备所用加压流体以避免溶解在所述流体中的气体脱气的方法，包括：接受具有第一流量和第一浓度的包含溶解气体的第一流体，所述第一流体将提供给第一半导体加工设备；接受具有第二流量和第二浓度的第二流体；混合第一流体和第二流体形成具有第三流量和第三浓度的包含溶解气体的第三流体，所述第三流体将提供给第二半导体加工设备。
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