[发明专利]关于利用结构光的探头系统的系统方面有效
| 申请号： | 200910206533.4 | 申请日： | 2009-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101726263A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | C·A·本达尔;K·G·哈丁;T·卡彭;宋桂菊;陶立 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25;G01B11/00;G02B23/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 柯广华;徐予红 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明名称为“关于利用结构光的探头系统的系统方面”。一种探头系统包括成像器和检查光源。探头系统配置成在检查模式和测量模式中操作。在检查模式期间，启用检查光源。在测量模式期间，禁用检查光源，并投射结构光图案。探头系统还配置成捕获至少一个测量模式图像。在所述至少一个测量模式图像中，结构光图案被投射到物体上。探头系统配置成利用来自所述至少一个测量模式图像的像素值以确定所述物体的至少一个几何尺寸。还提供配置成检测多个图像的两个或更多图像的捕获之间探头与所述物体之间的相对移动的探头系统。 | ||
| 搜索关键词： | 关于 利用 结构 探头 系统 方面 | ||
【主权项】：
一种探头系统，包括成像器和检查光源，所述探头系统配置成：在检查模式和测量模式中操作，其中所述检查光源在检查模式期间被启用，并且在测量模式期间被禁用，以及其中在测量模式期间投射结构光图案；捕获至少一个测量模式图像，其中所述结构光图案被投射到物体上；以及利用来自所述至少一个测量模式图像的像素值以确定所述物体的至少一个几何尺寸。
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