[发明专利]曝光装置及元件制造方法无效
申请号: | 200910207128.4 | 申请日: | 2005-06-08 |
公开(公告)号: | CN101685269A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 长坂博之;恩田稔 | 申请(专利权)人: | 尼康股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵燕力 |
地址: | 日本东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 曝光装置(EX)具有投影光学系统(PL)。投影光学系统(PL),具有最接近其像面的第1光学元件(LS1)、及次于第1光学元件(LS1)接近像面的第2光学元件(LS2)。第1光学元件(LS1),具有:配置成与基板(P)表面对向的下面(T1)、及配置成与第2光学元件(LS2)对向的上面(T2)。以第2液体(LQ2)充满于第1光学元件(LS1)的上面(T2)与第2光学元件(LS2)之间,以在上面(T2)中、在包含曝光用光(EL)通过的区域(AR’)的区域形成液浸区域,通过第1光学元件(LS1)的下面(T1)侧的第1液体(LQ1)、与上面(T2)侧的第2液体(LQ2)将曝光用光(EL)照射于基板(P)上,由此使基板(P)曝光。如此能防止因光学元件污染使曝光精度劣化,并抑制液浸区域的巨大化。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置,是通过第1液体将曝光用光照射于基板上以使基板曝光,其特征在于,具有:投影光学系统,具有多个元件,其包含最接近像面的第1元件、以及次于该第1元件接近该像面的第2元件;第1液浸机构,是将该第1液体供应至该第1元件与该基板之间;第2液浸机构,是将第2液体供应至该第1元件与该第2元件之间;该第1元件,具有配置成与该基板表面对向、使曝光用光通过的第1面;以及配置成与该第2元件对向、使曝光用光通过的第2面;该第1液浸机构,具有使该曝光用光通过的开口、以及于该开口周围配置成与该基板表面对向的平坦液体接触面;该第1液浸机构,具有用以将该第1液体供应至该第1元件与该基板之间的空间的供应口、以及从该基板上方回收该第1液体的回收口;该第1液浸机构的该回收口配置成包围该液体接触面;于该第1液浸机构的该回收口配置多孔构件;该第2液浸机构,具有供应该第2液体的供应口与回收该第2液体的回收口;使曝光用光通过在该第1元件的第1面与该基板间的该第1液体、以及在该第1元件的第2面与该第2元件间的该第2液体而照射于该基板上,以使该基板曝光。
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