[发明专利]一种气液两相流均匀分配装置

摘要

一种气液两相流均匀分配装置，主要包括分配器主管、旋流器、整流器和临界喷嘴和分配支管，旋流器、整流器依次布置在旋流器主管内，临界喷嘴位于整流器下游分配器主管壁上，每个临界喷嘴后接一个分配支管，气液两相来流在旋流器和整流器作用下，分层流、波浪流、不完全环状流等不对称流型被整改成液膜厚度均匀分布的环状流型，保证了下游各支路接触气液相的几率相等，随后在临界喷嘴内气液两相混合物被加速到临界流动，下游压力等参数变化不会传递到上游，从而克服了下游各支管路阻力特性不一致所导致的相分离，实现了均匀分配。与现有技术相比，本发明不受分配器各分支管下游参数波动的影响，无需人为干预，能进行自适应调节，而且体积小、结构紧凑，无运动部件，无需维护，具有良好的环境适应性。

主权项

一种气液两相流均匀分配装置，其特征在于：主要包括分配主管，旋流器、整流器、临界喷嘴和分配支管，分配主管入口接收上游来的两相流体，旋流器和整流器布置在分配主管内部，整流器布置在旋流器下游，临界喷嘴布置在整流器下游的分配主管的管壁上，每个临界喷嘴后接一个分配支管，分配主管末端由盲板密封。