[发明专利]图案形成方法无效

专利信息
申请号: 200910209666.7 申请日: 2009-11-04
公开(公告)号: CN101738854A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 金东敏;李原荣;李纪万;金升起;崔基植;诸葛银;金贞元;卞哲基;申在浩;边滋勋 申请(专利权)人: 株式会社东进世美肯
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/095;G03F7/012;H01L21/02
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄丽娟;朱梅
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种显示器元件用图案形成方法,其用于形成可适用于剥离工序的凹割形状轮廓。本发明通过使用特定结构的聚合化合物来增加感光速度,并可在形成多层光刻胶层时容易形成凹割形状轮廓,从而容易适用于剥离工序。另外,还可以形成大厚度的图案,并且可以省略工艺中的蚀刻工序,从而可以实现工序简单化。
搜索关键词: 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种图案形成方法,其特征在于,包括以下步骤:a)在基板上形成第一光刻胶层;b)在所述第一光刻胶层上形成第二光刻胶层;以及c)对所述第一光刻胶层和第二光刻胶层进行曝光、显影,从而形成凹割形状的光刻胶图案,所述第一光刻胶层通过由以下化学式1所表示的化合物来形成,所述第二光刻胶层的感光速度比第一光刻胶层的感光速度慢,[化学式1]所述化学式1中,R1至R3分别独立地表示氢或碳原子数为1至10的烷基,n表示10至1000的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东进世美肯,未经株式会社东进世美肯许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910209666.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top