[发明专利]具有高维持电压的SCR ESD保护结构无效

专利信息
申请号: 200910212765.0 申请日: 2009-11-09
公开(公告)号: CN101764151A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 易扬波;杨东林;祝靖;王钦;刘侠 申请(专利权)人: 苏州博创集成电路设计有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74;H01L29/06;H01L23/60;H02H9/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 215123 江苏省苏州市苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种具有高维持电压的静电放电防护SCR结构,形成于一器件上,所述器件包括包含P型衬底,在P型衬底上设有N型掩埋层,在N型掩埋层上设有N型阱,在P型衬底上还设有与N型阱平行的P型阱。在N型阱中设有第一N+掺杂区和第一P+掺杂区,第一N+掺杂区和第一P+掺杂区通过接触孔引出并连接在一起,作为器件的阳极,在P型阱中设有第二N+掺杂区和第二P+掺杂区,第二N+掺杂区和第二P+掺杂区通过接触孔引出并连接在一起,作为器件的阴极。SCR结构便由N型阱中的P+掺杂区,N型阱区域,P型阱区域,P型阱中的N+掺杂区构成,它通过P型衬底和N型阱之间的掩埋层来增加维持状态下的N阱电阻,从而增加了维持电压。
搜索关键词: 具有 维持 电压 scr esd 保护 结构
【主权项】:
一种具有高维持电压的静电放电防护SCR结构,形成于一器件上,所述器件包括:所述P型衬底(50),在所述P型衬底(50)上设有N型掩埋层(58),在所述N型掩埋层(58)上设有N型阱(51),在所述P型衬底(50)上还设有与所述N型阱(51)平行的P型阱(52),在所述N型阱(51)中设有N+掺杂区(53)和P+掺杂区(54),所述N+掺杂区(53)和所述P+掺杂区(54)通过接触孔引出并连接在一起,作为所述器件的阳极,在所述P型阱(52)中设有N+掺杂区(55)和P+掺杂区(56),所述N+掺杂区(55)和所述P+掺杂区(56)通过接触孔引出并连接在一起,作为所述器件的阴极,其特征在于:所述的静电放电防护SCR结构由所述P+掺杂区(54),所述N型阱(51),所述N型掩埋层(58),所述P型阱(52),和所述N+掺杂区(55)所组成。
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