[发明专利]超支化聚酯微光学光刻胶无效
| 申请号： | 200910214063.6 | 申请日： | 2009-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101799625A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 冯宗财 | 申请（专利权）人： | 湛江师范学院 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038 |
| 代理公司： | 湛江市三强专利事务所 44203 | 代理人： | 庞爱英 |
| 地址： | 524048 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种超支化聚酯微光学光刻胶，由超支化碱溶性感光聚合物，活性稀释剂、交联剂、光引发剂以及助剂等组成，超支化聚酯微光学光刻胶其感光性能、刻蚀性能、线性范围等可通过超支化聚合物结构、超支化聚合物分子末端的官能团及光刻胶配方进行调节。本发明的光刻胶配制容易、理化性能可调性大，可用水性显影剂显影，因而使用中对环境影响小，同时光刻胶感光度、图像清晰度高，刻蚀深度大，并有独特的线性刻蚀性能。尤其适合微光学元件的光刻加工。 | ||
| 搜索关键词： | 超支 聚酯 微光 光刻 | ||
【主权项】：
一种超支化聚酯微光学光刻胶，由以下质量百分比的原料组成：超支化碱溶性感光聚合物： 60.0％～85.0％，活性稀释剂： 5.0％～15.0％、交联剂： 5.0％～15.0％、光引发剂： 1.0％～10.0％、德谦466： 0.1％～1.0％。超支化聚酯微光学光刻胶其感光性能、刻蚀性能、线性范围等可通过超支化聚合物结构，超支化聚合物分子末端的官能团及抗蚀剂配方进行调节。
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