[发明专利]一种局域前表面场N型太阳电池的制作方法无效
申请号: | 200910214460.3 | 申请日: | 2009-12-31 |
公开(公告)号: | CN101764180A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 沈辉;杨灼坚;洪瑞江;梁宗存;陶龙忠 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人: | 李海波 |
地址: | 510275 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种局域前表面场N型太阳电池的制作方法,该方法利用铝硅合金化过程或高温硼扩散过程形成背表面p-n结,激光掺杂形成前表面局域重掺杂N型区域作为前表面场,并用化学镀或电镀方法在上述重掺杂N型区域上制作前电极。本发明与传统制作工艺相比具有工艺简单、成本低廉、无需二次对位等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 局域 表面 太阳电池 制作方法 | ||
【主权项】:
一种局域前表面场N型太阳电池的制作方法,其特征是利用铝硅合金化过程或高温硼扩散过程形成背表面p-n结,激光掺杂形成前表面局域重掺杂N型区域作为前表面场,并用化学镀或电镀方法在上述重掺杂N型区域上制作前电极,具体包括以下步骤:(a)对N型半导体衬底进行表面织构化并进行化学清洗;(b)在N型半导体衬底前表面制备介质膜;(c)在N型半导体衬底背表面制作p-n结;(d)在N型半导体衬底背表面制作银电极和铝电极;(e)在N型半导体衬底前表面涂覆磷源;(f)在N型半导体衬底前表面进行激光掺杂形成局域重掺杂N型区域;(g)用化学镀或电镀方法在重掺杂N型区域上制作前电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的