[发明专利]被蚀刻基体的制造方法以及感光性树脂组合物有效
| 申请号： | 200910215325.0 | 申请日： | 2009-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101762970A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 高木利哉;植松照博;桃泽绫 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/028 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 日本神奈川县川*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种被蚀刻基体的制造方法，该被蚀刻基体具有酸性和碱性条件下的耐蚀刻性，并且将在蚀刻工序结束后能够用碱性剥离液剥离的树脂图案作为掩模。本发明的被蚀刻基体的制造方法包括：在基体上形成感光性树脂层的工序；对上述感光性树脂层进行选择性曝光、显影以形成树脂图案的工序；将上述树脂图案作为掩模，使用45℃以下的酸性或碱性蚀刻液对上述基体进行选择性蚀刻的工序；使用50～80℃的碱性剥离液对上述树脂图案进行剥离的工序。上述感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂；三官能以上的多官能单体；光聚合引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 基体 制造 方法 以及 感光性 树脂 组合 | ||
【主权项】：
一种被蚀刻基体的制造方法，其特征在于该方法包括：在基体上涂布感光性树脂组合物，形成感光性树脂层的工序；对所述感光性树脂层进行选择性曝光后，显影以形成树脂图案的工序；以及将所述树脂图案作为掩模，使用45℃以下的酸性或碱性蚀刻液对所述基体进行选择性蚀刻的蚀刻工序；使用50～80℃的碱性剥离液对所述树脂图案进行剥离的工序；所述感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱性可溶性树脂；三官能以上的多官能单体；光聚合引发剂。
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