[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理装置的运转方法有效
| 申请号： | 200910224360.9 | 申请日： | 2009-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN101754569A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 古屋敦城;东条利洋 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够稳定且在短时间内变更装置状态的等离子体处理装置以及等离子体处理装置的运转方法。本发明的等离子体处理装置，具有输出干预处理容器内的等离子体的高频的多个高频电源，将这些输出功率依次阶段性地增大，由得到的等离子体对被处理体进行处理，该等离子体处理装置包括：按每个高频电源设置的高频电源单元，其包括，高频电源、控制其输出的功率控制部、测量反射波的功率值的反射波测量机构；判断各反射波的测量功率值是否在阈值以下的机构；和，对于轮到使输出功率增大一个等级的一个高频电源，在另一个高频波电源的反射波的测量功率值变为阈值以下后，经过预先设定的时间时向上述功率控制部供给用于使该一个高频电源的输出功率增大一个等级的定时信号的机构。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 运转 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其具有输出干预处理容器内的等离子体的高频的多个高频电源，由等离子体对上述处理容器内的被处理体进行处理，为了变更装置的状态而使这些多个高频电源的输出功率阶段性地变化，其特征在于，包括：高频电源单元，其设置于每个高频电源，具有：高频电源、控制该高频电源的输出的功率控制部、对在该高频电源反射的反射波的功率值进行测量的反射波测量机构；判断各高频电源的反射波的测量功率值是否为阈值以下的机构；和对于使输出功率变化的一个高频电源，在另一个高频电源的反射波的测量功率值变为阈值以下后，经过预先设定的时间时向上述功率控制部供给用于使该一个高频电源的输出功率变化的定时信号的机构。
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