[发明专利]抗静电剂、抗静电膜及抗静电膜被覆物有效
| 申请号： | 200910224857.0 | 申请日： | 2007-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN101696351A | 公开（公告）日： | 2010-04-21 |
| 发明（设计）人： | 西冈绫子;大久保隆 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/16 | 分类号： | C09K3/16;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供在化学放大型抗蚀剂中对于防止起雾及膜减薄现象表现优异的抗静电剂、使用了该抗静电剂的抗静电膜及被覆物。本发明涉及含有水溶性导电高分子、溶剂及水溶性高分子的抗静电剂。通过将水溶性高分子，特别是具有多肽键的水溶性高分子化合物或具有聚乙烯基结构的特定水溶性高分子与水溶性导电高分子并用，即使使用可便宜而简单地赋予对抗蚀剂的涂布性的表面活性剂，也能在保持涂布性的同时，抑制对抗蚀剂产生的影响(抗蚀剂溶解或抗蚀剂显影后形成的抗蚀剂起雾和膜减薄现象)。通过含有表面活性剂来提高涂布性的抗静电剂对于化学放大型抗蚀剂和非化学放大型抗蚀剂均有抑制混合的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 抗静电 被覆 | ||
【主权项】：
一种抗静电剂，含有水溶性导电高分子、溶剂及作为水溶性高分子的聚乙烯基己内酰胺。
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