[发明专利]具有减小的磁头保持间距、头介质间距或头到软底层间距的记录介质有效

专利信息
申请号: 200910225825.2 申请日: 2009-11-24
公开(公告)号: CN101740043A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 高凯中;陆斌;B·F·法尔库;X·马 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/62 分类号: G11B5/62;G11B5/66;G11B5/73;G11B5/725;G11B5/127;G11B5/84
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张政权
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明的多个方面所包括的记录介质通过减小头介质间距、头保持间距、或头到软底层间距,提高了面密度。这些方面包括用磁性材料所构成的组件与成分来替换目前非磁性的设备组件(比如夹层和外涂层)。其它方面涉及在记录介质内所沉积的磁性晶种层。较佳地,这些方面具体实现成方法、系统和/或其组件,减小了有效磁间距,而不牺牲物理间距。
搜索关键词: 具有 减小 磁头 保持 间距 介质 头到软 底层 记录
【主权项】:
一种用于磁性数据存储的介质,包括:磁性记录层;以及位于所述磁性记录层上的分离的顺磁性或铁磁性介质外涂层。
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