[发明专利]光刻装置及用于校准该光刻装置的方法无效
| 申请号： | 200910226433.8 | 申请日： | 2005-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN101702078A | 公开（公告）日： | 2010-05-05 |
| 发明（设计）人： | E·R·鲁普斯特拉;L·M·勒瓦斯尔;R·奥斯特霍特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明为光刻装置及用于校准该光刻装置的方法。光刻装置，包括基底台和用于控制基底台的移动的运动控制系统。该运动控制系统包括至少三个位置检测器，用于检测基底台的位置。为了测量基底台的位置和定向，每个位置检测器都包括一维或多维类型的光学编码器，这些光学编码器设置为共同提供至少六个位置值，为三个维度中的每一个维度提供至少一个位置值。至少三个光学编码器的三个或更多在三维坐标系中的不同位置处与基底台相连。运动控制系统设置为根据六个位置值中至少三个的子集来计算基底台在该三维坐标系中的位置，并根据六个位置值中至少三个的另一个子集来计算基底台相对于坐标系的定向。此外，描述了用于校准位置检测器的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 用于 校准 方法 | ||
【主权项】：
一种用于校准光刻装置中的编码器的方法，所述编码器包括传感器和光栅，所述编码器被配置以测量所述光刻装置中的可移动的支撑件的位置，所述方法包括以下步骤：使用干涉仪测量所述可移动的支撑件的位置；和基于由所述干涉仪测量的所述可移动的支撑件的位置，来校准所述编码器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910226433.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
