[发明专利]以硅基材料为介质层的低辐射玻璃无效
| 申请号： | 200910235378.9 | 申请日： | 2009-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN101691281A | 公开（公告）日： | 2010-04-07 |
| 发明（设计）人： | 李德杰 | 申请（专利权）人： | 李德杰 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;B32B9/04;B32B15/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 以硅基材料为介质层的低辐射玻璃，属于节能技术领域，其基本结构中依次包括玻璃基底、介质层、银层，其技术特征是，介质薄膜由组分渐变的硅氧、硅氮或硅氧氮薄膜构成。采用本发明的低辐射玻璃，不仅性能稳定，可靠性高，而且生产效率高，可大大降低成本，有利于大规模推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 介质 辐射 玻璃 | ||
【主权项】：
低辐射玻璃，具有单银层结构，其基本结构中，由下而上依次包括玻璃基底10、第1介质层11、银层12、第2介质层13，其特征在于：所述的每个介质层都由若干个子层构成，子层的数目在1到5之间选择；每个子层由组分渐变的硅氧薄膜、硅氮薄膜或硅氧氮薄膜构成；每个子层中，以该子层的中心平面为对称平面，硅组分和折射率在该平面的上下两侧成对称分布，硅组分和折射率最高的部位位于该子层的中心平面，硅组分和折射率最低的部位位于该子层最外侧的两个平面。
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