[发明专利]晶片垂直退火的方法及其装置有效

专利信息
申请号: 200910237944.X 申请日: 2009-11-26
公开(公告)号: CN102080264A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 卜俊鹏;朱蒙;张生国 申请(专利权)人: 中科晶电信息材料(北京)有限公司
主分类号: C30B33/02 分类号: C30B33/02
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 11241 代理人: 吴杰
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及晶片垂直退火的方法,它包括:将晶片放置在片架上,然后将若干个片架摞在一起;将摞在一起的片架放置在托架上,并将它们装入石英帽和石英管内,在石英帽内装入半导体材料,石英管通过焊接点或焊接面焊封在石英帽上,制得晶片垂直放置装置;将上述晶片垂直放置装置竖直地放置在退火炉中;退火开始后,以1-10℃/分钟的速度上升退火炉的炉温,当退火炉的炉温达到晶片材料0.5-0.8倍的晶片材料熔点温度时,保温4-18个小时,然后再以1-10℃/分钟的速度降低退火炉的炉温一直达到室温为止;将石英帽或/和石英管锯开取出晶片,完成了晶片的退火,本发明晶片垂直退火方法保证了每片晶片退火的温度均匀,提高了晶片成品率。
搜索关键词: 晶片 垂直 退火 方法 及其 装置
【主权项】:
一种晶片垂直退火的方法,其特征在于:它包括以下步骤:(1)将晶片(4)放置在片架(3)上,然后将若干个片架(3)摞在一起;(2)将摞在一起的片架(3)放置在托架(5)上,并将它们装入石英帽(6)和石英管(2)内,在石英帽(6)内装入半导体材料(8),石英管(2)通过焊接点或焊接面(7)焊封在石英帽(6)上,制得晶片垂直放置装置;(3)将上述晶片垂直放置装置竖直地放置在退火炉(1)中;(4)退火开始后,以1‑10℃/分钟的速度上升退火炉的炉温,当退火炉的炉温达到晶片材料0.5‑0.8倍的晶片材料熔点温度时,保温4‑18个小时,然后再以1‑10℃/分钟的速度降低退火炉的炉温一直达到室温为止;(5)将石英帽(6)或/和石英管(2)锯开取出晶片(4),完成了晶片(4)的退火。
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