[发明专利]离线镀膜低辐射玻璃

摘要

离线镀膜低辐射玻璃，属于节能技术领域，基本结构包括玻璃基底、介质层和银层。其技术特征是，介质层包括多个子层，其中至少有一个子层是由硅或硅合金薄膜构成，或者由组分渐变的硅氧、硅氮、硅氧氮、硅合金氧、硅合金氮、硅合金氧氮等薄膜构成，或者由组分渐变的铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属或它们之间合金的氮薄膜构成。采用本发明的低辐射玻璃，不仅性能稳定，可靠性高，而且生产效率高，可大大降低成本，有利于大规模推广应用。

主权项

低辐射玻璃，具有单银层结构，其基本结构中，由下而上依次包括玻璃板10、第1介质层11、银层12、第2介质层13，其特征在于：所述的各介质层由1至10个子层组成，构成子层的材料包括氧化锌薄膜、氧化锡薄膜、氧化铟锡薄膜、硅薄膜、硅和其它金属组成的以硅为主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合金薄膜等，构成子层的材料还包括铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氧化物和氮化物薄膜，构成子层的材料还包括沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜，构成子层的材料还包括沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氮薄膜；构成介质层的各个子层的薄膜可以相同，也可以不同，但至少有一个子层是由硅薄膜和硅合金薄膜中的一种构成，或者由沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜中的一种构成，或者由沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氮薄膜中的一种构成。