[发明专利]一种超导平面电路的制备工艺有效
| 申请号： | 200910238769.6 | 申请日： | 2009-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN101868127A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 张晓平;郭旭波;曹必松;金世超 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | H05K3/46 | 分类号： | H05K3/46;H05K3/40 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超导平面电路的制备工艺，其包括步骤：1、根据需要，取一块表面有导电层和超导薄膜层的衬底，在导电层表面形成由光刻胶构成的电路图形；2、通过干法刻蚀或湿法刻蚀将导电层和超导层刻蚀成电路图形之后，去除电路表面的光刻胶；3、在电路上需要保留导电层电极的位置手工涂覆光刻胶，之后进行烘焙；4、通过干法刻蚀或湿法刻蚀对导电层进行刻蚀，之后去除光刻胶；5、得成品。本发明工艺减少了对超导薄膜性能的影响，并减少了光刻步骤，周期短，工艺复杂度低和制作成本少。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超导 平面 电路 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种超导平面电路的制备工艺，其特征在于，包括步骤：1)根据需要，取一块表面有导电层和超导薄膜层的衬底，在导电层表面形成由光刻胶构成的电路图形；2)通过干法刻蚀或湿法刻蚀将导电层和超导层刻蚀成电路图形之后，去除电路表面的光刻胶；3)在电路上需要保留导电层电极的位置手工涂覆光刻胶，之后进行烘焙；4)通过干法刻蚀或湿法刻蚀对导电层进行刻蚀，之后去除光刻胶；5)得成品。
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