[发明专利]真空镀膜设备无效
| 申请号： | 200910241702.8 | 申请日： | 2009-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN102080209A | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 姚立强 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏晓波;逯长明 |
| 地址： | 100016 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空镀膜设备，包括真空腔体(22)和用于控制真空腔体(22)内部压力的压力调节部件(24)，所述真空腔体(22)和所述压力调节部件(24)之间连接有沉积装置(27)，所述沉积装置(27)包括沉积腔体(271)和位于所述沉积腔体(271)内的阻隔部件，所述阻隔部件与所述沉积腔体(271)的侧壁形成弯曲的气流通道。本发明所提供的真空镀膜设备能够在有效地减少沉积物颗粒沉积于压力调节部(24)件及其连接管路上的基础上，降低沉积装置的清理和维护难度。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜设备，包括真空腔体(22)和用于控制真空腔体(22)内部压力的压力调节部件(24)，所述真空腔体(22)和所述压力调节部件(24)之间连接有沉积装置(27)，其特征在于，所述沉积装置(27)包括沉积腔体(271)和位于所述沉积腔体(271)内的阻隔部件，所述阻隔部件与所述沉积腔体(271)的侧壁形成弯曲的气流通道。
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