[发明专利]小基高比立体测绘光学系统有效

专利信息
申请号: 200910242899.7 申请日: 2009-12-18
公开(公告)号: CN101718550A 公开(公告)日: 2010-06-02
发明(设计)人: 傅丹膺;杨秉新;方勇;李博;曾勇强;李瀛搏;王建永;姚罡 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: G01C11/02 分类号: G01C11/02
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 安丽
地址: 10007*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 小基高比立体测绘光学系统,采用完全共用主镜、次镜、三镜和平面折转镜的同轴三反射镜系统,偏视场使用,由两个独立的光学成像路径组合成。两组入射光线具有1°~6°夹角,分别依次到达主镜、次镜和三镜,最终再由平面镜折转到两个分立的接收像面上分别成像。本系统利用同时共用的主镜、次镜、三镜和平面折转镜以及双焦面实现前、后两个视场同时成像,从而通过单相机双通道成像的反射式光学系统实现高精度小基高比立体测绘。本系统具有光机结构集成度高,体积小,重量轻,便于在轨实时检测,内方位元素稳定度高等优点,特别适用于小基高比测绘制图中卫星相机单轨推扫,进行立体成像和测绘。
搜索关键词: 小基高 立体 测绘 光学系统
【主权项】:
小基高比立体测绘光学系统,其特征在于包括:共用主镜(1)、共用次镜(2)、共用三镜(3)、共用平面折转镜(4)和接收像面(5);共用主镜(1)、共用次镜(2)和共用三镜(3)同轴并作为光学系统的主光轴,共用主镜(1)上设置两个中心对称的通光孔,两个不同视场的夹角为1°~6°的视场光线从左侧以主光轴为中心对称入射至共用主镜(1)上,经过共用主镜(1)及共用次镜(2)反射之后分别透过两个通光孔到达共用三镜(3);共用平面折转镜(4)位于共用主镜(1)的右侧且位于两个通光孔之间,共用三镜(3)反射的光线经共用平面折转镜(4)反射到达两组分立的接收像面(5)后各自成像。
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