[发明专利]一种光刻技术中实现对准偏差测量的装置和方法有效
申请号: | 200910243212.1 | 申请日: | 2009-12-29 |
公开(公告)号: | CN102109755A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 潘光燃;马万里;张立荣 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G01B3/18 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻技术中实现对准偏差测量的方法和光刻游标尺,该方法和装置应用于光刻技术领域。光刻游标尺包括:多条游标尺的短尺齿设置在第一层光刻板图形中,并且各短尺齿等间距排列;多条游标尺的长尺齿设置在第二层光刻板图形中,该长尺齿与所述短尺齿交错排列,并且以长尺齿正中的一条尺齿为原点,该原点正负两端的长尺齿与该原点间隔的距离分别为长尺齿所在坐标的绝对值乘上游标尺的分辨率的二倍所得乘积加上长尺齿距离原点的原始距离,长尺齿与短尺齿组合形成一幅游标尺,其中,所述原始距离为所述长尺齿与原点之间所有长尺齿和短尺齿的宽度值之和。应用本发明实施例提供的方法和装置能够克服现有技术中光刻游标尺读数困难的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 技术 实现 对准 偏差 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种光刻游标尺的生成方法,其特征在于,包括:在第一层光刻板图形中设置多条游标尺的短尺齿,并且所述短尺齿等间距排列;在第二层光刻板图形中设置多条游标尺的长尺齿,并且所述长尺齿等间距排列;第一层光刻板图形与第二层光刻板图形重叠时,长尺齿与短尺齿交错排列,短尺齿的宽度等于相邻两个长尺齿的间距;以长尺齿正中的一条尺齿为原点,该原点正负两端的长尺齿以所述原点为中心分别向两端移动对应距离,长尺齿与短尺齿组合形成一幅游标尺,其中,所述对应距离等于待移动的长尺齿所在坐标的绝对值乘上预设分辨率的二倍。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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