[发明专利]一种制备硅基纳米柱阵列的方法无效
| 申请号： | 200910244521.0 | 申请日： | 2009-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102115028A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 贾锐;岳会会;陈晨;刘新宇;叶甜春 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备硅基纳米柱阵列的方法，用以提高晶体硅太阳能电池效率和制造硅异质结太阳能电池，该方法包括：A、配置氢氟酸基腐蚀液；B、利用该腐蚀液对硅衬底进行腐蚀；C、利用酸溶液清洗硅片，去除表面银颗粒；D、利用氢氟酸对硅片进行漂洗，形成纳米柱阵列。本发明提供的这种制备硅基纳米柱阵列的方法，利用湿法化学腐蚀形成硅基纳米柱阵列，能够极大降低因干法刻蚀所造成的损伤，减少最终的纳米柱阵列的缺陷，从而提高其最终硅基纳米柱阵列非晶硅薄膜异质结太阳能电池的转化效率。另外，本发明与气-液-固三相生长的硅基纳米柱相比，可规则的形成硅基纳米柱阵列结构，其工艺过程简单，成本低，能够大面积制作规则的纳米柱阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 纳米 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种制备硅基纳米柱阵列的方法，其特征在于，该方法包括：A、配置氢氟酸基腐蚀液；B、利用该腐蚀液对硅衬底进行腐蚀；C、利用酸溶液清洗硅片，去除表面金属颗粒；D、利用氢氟酸对硅片进行漂洗，形成纳米柱阵列。
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