[发明专利]窗口层为p型微晶硅锗的硅锗薄膜太阳电池及其制备方法无效
申请号: | 200910244847.3 | 申请日: | 2009-12-17 |
公开(公告)号: | CN101740648A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 张建军;尚泽仁;倪牮;曹宇;王先宝;赵颖;耿新华 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种窗口层为p型微晶硅锗的硅锗薄膜太阳电池,包括透明衬底、透明导电薄膜、窗口层、本征层、N+层和金属背电极,窗口层为p型微晶硅锗薄膜;该p型微晶硅锗薄膜的制备方法,步骤为:1)将带有透明导电膜的玻璃衬底放在真空室内,本底真空高于2×10-4Pa;2)在向反应室通入反应气体硅烷、氟化锗、硼烷和氢气的条件下,沉积p型微晶硅锗薄膜。本发明的优点是:该硅锗薄膜太阳电池结构新颖;制备的p型微晶硅锗薄膜材料具有带隙和晶化率可调、电导率高的优点且制备工艺简单、容易操作、制造成本低;采用该材料的硅锗薄膜太阳电池优化了电池p/i的界面匹配,改善了界面特性,有利于提高电池效率。 | ||
搜索关键词: | 窗口 型微晶硅锗 薄膜 太阳电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种窗口层为p型微晶硅锗的硅锗薄膜太阳电池,包括透明衬底、透明导电薄膜、窗口层、本征层、N+层和金属背电极,其特征在于:窗口层为p型微晶硅锗薄膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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