[发明专利]窗口层为p型微晶硅锗的硅锗薄膜太阳电池及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910244847.3 申请日: 2009-12-17
公开(公告)号: CN101740648A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 张建军;尚泽仁;倪牮;曹宇;王先宝;赵颖;耿新华 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/0216;H01L31/18
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种窗口层为p型微晶硅锗的硅锗薄膜太阳电池,包括透明衬底、透明导电薄膜、窗口层、本征层、N+层和金属背电极,窗口层为p型微晶硅锗薄膜;该p型微晶硅锗薄膜的制备方法,步骤为:1)将带有透明导电膜的玻璃衬底放在真空室内,本底真空高于2×10-4Pa;2)在向反应室通入反应气体硅烷、氟化锗、硼烷和氢气的条件下,沉积p型微晶硅锗薄膜。本发明的优点是:该硅锗薄膜太阳电池结构新颖;制备的p型微晶硅锗薄膜材料具有带隙和晶化率可调、电导率高的优点且制备工艺简单、容易操作、制造成本低;采用该材料的硅锗薄膜太阳电池优化了电池p/i的界面匹配,改善了界面特性,有利于提高电池效率。
搜索关键词: 窗口 型微晶硅锗 薄膜 太阳电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种窗口层为p型微晶硅锗的硅锗薄膜太阳电池,包括透明衬底、透明导电薄膜、窗口层、本征层、N+层和金属背电极,其特征在于:窗口层为p型微晶硅锗薄膜。
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