[发明专利]红外焦平面封装窗口的制作方法无效
申请号: | 200910247649.2 | 申请日: | 2009-12-30 |
公开(公告)号: | CN102117863A | 公开(公告)日: | 2011-07-06 |
发明(设计)人: | 周东平;赵培 | 申请(专利权)人: | 上海欧菲尔光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 杨元焱 |
地址: | 200434 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种红外焦平面封装窗口的制作方法,是在一块矩形或圆形基片的中间部分镀制一层矩形或圆形红外薄膜作为红外薄膜区,在四周镀制一层金属薄膜作为金属化区;其中的红外薄膜是通过将基片置于一个专用夹具中,将四周金属化区遮盖,留出中间红外薄膜区镀制而成;金属薄膜是通过将己镀制好红外薄膜的基片将红外薄膜用高温胶带作为掩膜覆盖住,留出四周金属化区镀制而成。本发明的方法把镀制红外薄膜与制作红外薄膜图形结合在一起,并利用高温胶带作为金属薄膜掩膜直接覆盖红外薄膜,大大简化了工艺过程,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 红外 平面 封装 窗口 制作方法 | ||
【主权项】:
一种红外焦平面封装窗口的制作方法,是在一块矩形或圆形基片的中间部分镀制一层矩形或圆形红外薄膜作为红外薄膜区,在四周镀制一层金属薄膜作为金属化区;其特征在于:所述的红外薄膜是通过将基片置于一个专用夹具中,将四周金属化区遮盖,留出中间红外薄膜区镀制而成;所述的金属薄膜是通过将已镀制好红外薄膜的基片将红外薄膜用高温胶带作为掩膜覆盖住,留出四周金属化区镀制而成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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