[发明专利]采用数字相移的无掩模光刻方法和装置无效
| 申请号： | 200910247935.9 | 申请日： | 2009-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102117015A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 周成刚;程谟嵩 | 申请（专利权）人： | 上海科学院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 骆希聪 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种采用数字相移的无掩模光刻装置和方法，该装置包括照明系统、分束器、第一空间光调制器和一第二空间光调制器、以及投影光学系统。分束器将照明系统提供的照明光分成第一光束和第二光束，分别投向第一空间光调制器和第二空间光调制器。第一空间光调制器和第二空间光调制器分别将第一光束和第二光束调制成所需要形成的曝光图案的相互交错的第一子图案和第二子图案，再经分束器投射至投影光学系统。投影光学系统将第一光束和第二光束投影至一光刻对象，以在光刻对象上组合形成所述曝光图案，其中投射到光刻对象的第一子图案和第二子图案的相邻结构的相位差为180度。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 数字 相移 无掩模 光刻 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种采用数字相移的无掩模光刻装置，包括：照明系统，用以提供照明光；分束器，将所述照明光分成第一光束和第二光束，分别投向一第一空间光调制器和一第二空间光调制器；所述第一空间光调制器，将第一光束调制成所需要形成的曝光图案的第一子图案，且经所述分束器投射至一投影光学系统；所述第二空间光调制器，将第二光束调制成所需要形成的曝光图案的第二子图案，且经所述分束器投射至一投影光学系统，其中第一子图案和第二子图案交错；投影光学系统，将所述第一光束和第二光束投影至一光刻对象，以在光刻对象上组合形成所述曝光图案，其中投射到光刻对象的第一子图案和第二子图案的相邻结构的相位差为180度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海科学院，未经上海科学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910247935.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种太阳能跟踪装置
- 下一篇：一种提高光刻工艺中焦深的方法
