[发明专利]抗蚀剂无效
| 申请号： | 200910252535.7 | 申请日： | 2009-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101762978A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 栗原一真;中野隆志;岛隆之;富永淳二;藤冈和也;末广一郎 | 申请（专利权）人： | 独立行政法人产业技术综合研究所;日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种含有金属氮氧化物而成的抗蚀剂。本发明的抗蚀剂能够适合用于制备例如微透镜片材、光扩散片、无反射片、光半导体元件密封用片材、光波导、光盘、光传感器等的光学部件的表面加工用的成形模具。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂，其含有金属氮氧化物而成。
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