[发明专利]光学设备有效
申请号: | 200910252634.5 | 申请日: | 2006-11-28 |
公开(公告)号: | CN101713903A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 太田盛也 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03B13/36 | 分类号: | G03B13/36;H04N5/225 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 康建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了一种光学设备,其实现了在AF控制中的高聚焦准确度和有利的响应性。所述设备包括信号发生器,其从来自摄像部件的输出中提取多个频带中的信号,并从所述提取的信号中产生聚焦信号,以及控制器,其进行聚焦控制以便所述聚焦信号接近最高值。在聚焦控制中,所述控制器使用第一聚焦信号和第二聚焦信号。所述第二聚焦信号是通过合成在所述多个频带的相对较高或最高的频带中的聚焦信号和另一频带中的聚焦信号而形成的合成信号,并且与所述第一聚焦信号相比以更高比率包含所述相对较高或最高的频带中的聚焦信号的分量。 | ||
搜索关键词: | 光学 设备 | ||
【主权项】:
一种光学设备,其包含:信号发生器,其被配置成从来自摄像部件的输出中提取多个频带中的信号,并从所提取的信号产生聚焦信号;聚焦透镜;以及控制器,其被配置成选择性地使用第一聚焦信号和第二聚焦信号中的一个进行聚焦控制以驱动所述聚焦透镜,使得聚焦信号接近最高值,并且检测所述第一聚焦信号和第二聚焦信号中的所述一个增加的聚焦控制方向,其特征在于,所述第一聚焦信号和第二聚焦信号中的每一个都是通过合成第一频带和低于第一频带的第二频带中的聚焦信号中的至少两个聚焦信号形成的合成信号;被合成以形成第二聚焦信号的第一频带中的聚焦信号与整个第二聚焦信号的比率高于被合成以形成第一聚焦信号的第一频带中的聚焦信号与整个第一聚焦信号的比率;以及所述控制器通过使所述聚焦透镜在包括所述第一聚焦信号达到所述最高值的位置的区域中往复运动预定次数,来执行第一对焦确定操作,并且此后通过使所述聚焦透镜在包括所述第二聚焦信号达到所述最高值的位置的区域中往复运动预定多次,来执行第二对焦确定操作。
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