[发明专利]振动校正设备、振动校正方法和成像装置无效
| 申请号： | 200910253248.8 | 申请日： | 2009-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101750755A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 田中风人 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/64 | 分类号： | G02B27/64;G03B5/00;H04N5/232 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 周少杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种振动校正设备，包括：振动检测单元，检测振动以便生成振动检测信号；驱动单元，相对于光轴位移透镜单元和成像设备之间的相对位置关系，以便在所述成像面上位移在所述成像设备的成像面上形成的光学图像的位置；位移检测单元，检测校正透镜单元或成像设备的位移状态；滤波处理单元，执行所述振动检测信号的滤波处理；以及校正控制单元，根据滤波处理的振动检测信号位移透镜单元和成像设备之间的相对位置关系，以便校正由通过所述振动检测单元检测到的振动生成的在所述成像面上的所述光学图像的振动。 | ||
| 搜索关键词： | 振动 校正 设备 方法 成像 装置 | ||
【主权项】：
一种振动校正设备，包括：振动检测单元，检测振动以便生成振动检测信号；驱动单元，相对于光轴位移透镜单元和成像设备之间的相对位置关系，以便在所述成像面上位移在所述成像设备的成像面上形成的光学图像的位置；位移检测单元，检测校正透镜单元或成像设备的位移状态；滤波处理单元，执行所述振动检测信号的滤波处理；以及校正控制单元，根据滤波处理后的振动检测信号位移透镜单元和成像设备之间的相对位置关系，以便校正由通过所述振动检测单元检测到的振动生成的在所述成像面上的所述光学图像的振动，其中所述滤波处理单元根据由所述位移检测单元检测到的位移状态改变滤波处理特性，并且随着检测到的位移状态变得接近位移限制而限制光学图像的振动校正。
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