[发明专利]流体喷射装置以及流体喷射装置的维护方法有效
申请号: | 200910253283.X | 申请日: | 2009-12-11 |
公开(公告)号: | CN101746144A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 菅田佳寿 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/165 | 分类号: | B41J2/165;B41J2/01 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种流体喷射装置,其中,具备:记录头(29),其在喷嘴形成面(31)上形成有喷嘴;多个维护装置(68),与记录头对应;维护盖罩(63),其将该各维护装置支承为与记录头对应的配置状态;升降装置(64),其使维护盖罩在各维护装置处于靠近记录头的位置、和处于远离记录头的位置之间移动;和个别移动机构,其在维护盖罩上使各维护装置按包括维护装置而构成的每个维护装置组,沿着靠近或远离该维护装置组中包含的维护装置所对应的记录头的方向个别移动。由此,提供一种结构上简单并能够可靠执行流体喷射头的选择维护的流体喷射装置以及流体喷射装置的维护方法。 | ||
搜索关键词: | 流体 喷射 装置 以及 维护 方法 | ||
【主权项】:
一种流体喷射装置,其特征在于,具备:流体喷射头,其在喷嘴形成面上形成有喷嘴;第一盖罩装置,其具有通过以开口部包围所述喷嘴形成面的喷嘴的形态被所述流体喷射头或支承该流体喷射头的支承体覆盖而成为密闭状态的空间域;第二盖罩装置,其具有通过被该第一盖罩装置覆盖开口部而成为密闭状态的空间域;维护装置,其以与所述流体喷射头对应的配置形态被容纳在该第二盖罩装置的所述空间域内;一齐移动机构,其使所述第二盖罩装置在所述维护装置处于靠近所述流体喷射头的位置状态的维护位置、和所述维护装置处于远离所述流体喷射头的位置状态的退避位置之间移动;和第一盖罩装置移动机构,其使所述第一盖罩装置在位于所述维护位置与所述退避位置之间的所述第二盖罩装置的移动路径上的干涉位置、和从该干涉位置沿与所述第二盖罩装置的所述移动路径延伸的方向交叉的方向远离的非干涉位置之间移动;所述第一盖罩装置在所述干涉位置处,按压在随着所述一齐移动机构的驱动而从所述退避位置向所述维护位置方向移动的所述第二盖罩装置上来靠近所述流体喷射头。
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